CuNi3Si 是一種通過 Ni?Si 相沉淀強化的銅合金，成分范圍為銅 95.5%-96.5%、鎳 2.8%-3.2%、硅 0.5%-0.7%，雜質總含量≤0.5%。這種合金在保持 65% IACS 高導電率的同時，抗拉強度達 620-670MPa，成為電子工業中高強度導電部件的理想選擇。

3% 鎳與 0.6% 硅的精準配比是性能平衡的關鍵，460℃時效處理時，均勻析出直徑 18-22nm 的 Ni?Si 強化相，使強度比純銅提升 2 倍，而導電率僅降低 20%。某 5G 基站的 CuNi3Si 信號傳輸端子，厚度 0.3mm，在保持 65% IACS 導電率的同時，插拔 10 萬次后接觸電阻仍穩定在 25mΩ 以下，信號傳輸延遲≤0.8ns，滿足高頻通信需求。

加工性能適配精密成型工藝，冷加工率可達 75%，能軋制成 0.06mm 的超薄帶材，最小彎曲半徑 0.3 倍厚度（90° 彎曲無裂紋）。某智能手機的 CuNi3Si 天線彈片，經沖壓成型后，尺寸公差控制在 ±0.005mm，確保信號接收穩定。其焊接性能適合微電子封裝，激光焊接熱影響區寬度≤0.08mm，接頭強度達母材的 92%，滿足精密電子元件的連接要求。

耐蝕性優于普通黃銅，在濕熱環境（40℃、90% 濕度）中，年腐蝕速率 0.004mm。某戶外傳感器的接線端子使用 3 年無銹蝕，接觸電阻變化≤8mΩ。高溫穩定性良好，120℃時效 1000 小時后，強度保持率 92%，某汽車發動機艙的連接器在 120℃環境中，使用壽命達 10 年。

制備工藝注重時效控制，工頻感應爐熔煉時，硅以 Cu-Si 中間合金加入，避免氧化燒損。900℃固溶處理后水淬，再經 460℃×3 小時時效，確保 Ni?Si 相均勻分布。冷軋過程控制軋制油清潔度，表面粗糙度 Ra≤0.05μm，滿足精密電子對表面質量的要求。

應用集中在高端電子領域：5G 設備的高頻連接器，低信號損耗；新能源汽車的電池極耳，兼顧導電與抗疲勞；航空航天的精密傳感器引線，耐振動沖擊；半導體的引線框架，尺寸穩定性優異。